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        中國電科勇攀CMP研發高峰 推動高端集成電路裝備國產化

        文章來源:中國電子科技集團有限公司  發布時間:2022-08-11

        “我們自主研發的200毫米化學機械拋光(CMP)設備成功進入客戶現場驗證,各項測試數據良好。”來到中國電科45所的凈化廠房內,排列著數臺待調試的設備,工程師們正緊張有序地忙碌著。

        CMP國內市場占有率70%、300毫米CMP設備累計流片數萬片,CMP設備銷售收入、利潤均遠超去年同期……2022年上半年,中國電科CMP設備捷報頻傳。

        CMP是芯片制造的七大關鍵設備之一,因其高精度、高密集的技術要求,長期以來,我國集成電路裝備難以實現自主創新。國家需要就是科研方向。中國電科團隊勇挑使命,上下同心、合力攻堅,通過苦研算法、反復推演、耐心驗證,終于成功研發出國內首臺擁有完全自主知識產權的200毫米CMP商用機,經嚴格的“馬拉松”測試,上線集成電路大生產線,獲評“媲美國際同類設備”。

        在CMP設備之外,中國電科圍繞產業鏈部署創新鏈,在高端裝備領域形成了高端顯示、光伏新能源、動力電池材料等泛半導體裝備局部成套和集成服務能力:實現中束流、大束流、高能、特種應用及三代半導體離子注入機全譜系產品創新發展;全系列晶圓清洗干燥技術達到國際先進水平;瞄準光器件“卡脖子”難題,研制的全自動多芯片共晶貼片設備成功填補國內空白;同時擁有完全自主知識產權的國產減薄設備,在國內大尺寸硅材料片領域實現全系列化應用……中國電科挺起集成電路高端裝備自立自強“脊梁”,持續輸出國產化裝備“硬核”成績單。

        【責任編輯:溫存】

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