近日，中國兵器裝備集團公司成功研制出國內首套磁控濺射鍍膜機，填補了該項目國內空白，實現了高精度濺射鍍膜機的國產化，滿足我國當前大批量、穩定鍍制多種高品質精密光學薄膜的需求，為我國今后一段時期的鍍膜機研發提供了方向。該機型由集團公司自主研制生產，具有完全自主知識產權，其技術水平處于國內領先，創造了國內鍍膜機研制的4個第一次：第一次采用磁控濺射和電子蒸鍍兩套鍍膜系統，將蒸鍍技術與濺射技術在一臺機器上實現成功覆蓋，在國內首次具備了蒸鍍和濺射兩種功能為一體的兩用機型，減少了設備的采購成本和能源消耗；第一次在真空室的設計上采用雙真空室，有利于提高工作效率、保護靶材和節能降耗；第一次運用了分子泵技術，使極限真空實現一次性達標；在控制部分第一次采用工控機控制，提高了設備的自動化程度，避免了人為因素造成的失誤。