近日，中國建筑工程總公司所屬中建一局中標世界最先進10納米級閃存生產線-西安三星半導體FAB廠房主體工程，建筑面積25萬平米，合同金額近13億元。

　　該工程位于陜西省西安市高新區，是國家重點工程，建成后將是世界最先進的10納米級 NAND Flash(閃存)生產線。同時，該工程使用預制混凝土構件應用于大型高科技電子廠房建設中，使用量之大在中國尚屬首次，為未來高科技廠房的建設提供了新思路，并對國內逐漸興起的裝配式結構的應用起了積極的推動作用。